Exposure
ORC露光装置
ORC露光装置は、自動両面露光、真空密着露光、CCD自動位置合わせ機能により、HDI基板、MLB基板、Flexible PCBの生産に使用される高精度PCB露光装置です。
主な仕様
- メーカー
- ORC
- モデル
- Automatic Double-side / Vacuum Contact Exposure
- 作業範囲
- 最大24inch x 28inchクラス対応
- スピンドル
- -
- 速度
- 自動両面露光
- 電力
- UV Mercury Lamp / LED UV
- 電圧
- Factory Spec
- 適用分野
- Multilayer PCB, HDI基板, Flexible PCB, IC Package Substrate
設備詳細説明
製品概要
ORC露光装置は、PCB製造工程において回路パターンを基板へ転写するために使用される高精度露光装置です。
自動両面露光装置は、両面PCBを同時に露光できるため量産ラインでの生産性向上に適しています。また、CCD自動位置合わせ機能により、X/Y/θ方向の位置補正が可能です。
真空密着露光方式では、フィルムと基板を真空で密着させた後に露光するため、Fine Lineパターン形成や高解像度PCB生産に適しています。
主な特徴
- 自動両面露光に対応
- CCD自動位置合わせ機能
- X/Y/θ位置補正が可能
- 真空密着露光方式に対応
- Fine Lineパターン形成が可能
- HDI基板および多層PCB生産に適合
- 量産ラインへの適用が可能
適用分野
Multilayer PCB、HDI基板、Flexible PCB、ICパッケージ基板、Fine Line PCB、高解像度回路基板の製造工程に使用できます。